点击图片查看原图
产品描述
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 160. 属于栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
离子束流: >650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.
加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数：
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数：
|
portant;">
离子源型号 |
portant;">
离子源 KDC 160 |
|
portant;">
Discharge |
portant;">
DC 热离子 |
|
portant;">
离子束流 |
portant;">
>650 mA |
|
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
|
portant;">
栅极直径 |
portant;">
16 cm Φ |
|
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
|
portant;">
流量 |
portant;">
2-30 sccm |
|
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
|
portant;">
长度 |
portant;">
25.2 cm |
|
portant;">
直径 |
portant;">
23.2 cm |
|
portant;">
中和器 |
portant;">
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域：
伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域:
1. 溅镀和蒸发镀膜 PC
2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5. 离子蚀刻 IBE