 产品分类友情链接 |
|
| 图片 |
标 题 |
更新时间 |
 |
美国 KRI 霍尔离子源 eH 2000
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI霍尔离子源eH 2000特别适合大中型真空系统,带有水冷方式,低成本设计提供高离子电流.通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸:直径= 5.7“高= 5.
|
2021-03-22 |
 |
美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI霍尔离子源eH 3000最适合大型真空系统,与友厂大功率离子源对比, eH 3000是目前市场上最高效,提供最高离子束流的无栅网离子源.尺寸:直径= 9.7“高= 6“放电电
|
2021-03-22 |
 |
美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI考夫曼离子源KDC 160. 属于栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.适用于已知的所有离子源应用.离子束流: 650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝,
|
2021-03-22 |
 |
美国 KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI考夫曼离子源KDC 系列. 属于栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.离子束流: 10 mA~650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝.加热灯丝产生电子,增强
|
2021-03-22 |
 |
美国 KRI 射频离子源 RFICP 220
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI射频离子源RFICP 220, 大面积高能量栅网离子源.离子束流: 800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器:LFN 2000; 流量(Typical flow):10-40 sccm; 压力: 0.5m Tor
|
2021-03-22 |
 |
美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI射频离子源, 离子束可选聚焦, 平行, 散射.离子束流: 100 mA~1500mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器:LFN 2000.采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间
|
2021-03-22 |
 |
美国 KRI 射频离子源 RFICP 380
产品描述上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI离子源, 100%原厂原装进口.KRI 射频离子源 RFICP 380 属于大面积射频离子源,离子束流: 1500 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器:LFN 2000.离子束可聚焦, 平行
|
2021-03-22 |
 |
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C
产品描述上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 产品优势：Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点:1. 干式制程的微细加工装置, 使得在
|
2021-03-22 |
|
